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爱发科ICP刻蚀设备刻蚀系统NE-550EXz现货，电极的刻蚀效果好，能够进行正确稳定的刻蚀重点效果检测，具有维护便利、性能稳定、产能优良等特点。...
二手翻新现货Nikon步进式光刻机 NSR G8A 1台，包含技术方案修改和售后服务，同时为您提供整个半导体产业链的技术参考和方案设计。...
二手尼康Nikon翻新现货 光刻机NSR-2005 I8A价格大约80万美金左右，更多详细参数和技术修改以及方案对接，请咨询我们进行详谈。...
现有二手尼康Nikon翻新现货 光刻机NSR-1755 i7一台，价格大约$650,000左右，针对4寸/6寸晶圆，分辨率0.6 um um L&S。...
AMAT 沉积刻蚀设备蚀刻机 P5000由全球著名半导体设备厂商美国应用材料公司(Applied Materials）生产，P5000系统是世界上第一台成功的以单晶片、多反应室理念而设计的量产与研发均适用的半...
二手翻新佳能i线步进式光刻机FPA-8000iW最大处理515*510mm的大型面板基板，可实现大封装PLP生产，同时具备1.0μm的分辨率，高效灵活。...
佳能二手翻新光刻机FPA-5520iV，用于高级封装的 i-line 步进器，具有支持高分辨率和大曝光场的可选阵容，现货支持。...
二手现货佳能光刻机FPA-5510iX，可在 50 mm x 50 mm 的大曝光场上提供 0.5 um 的分辨率在单次曝光中曝光大视野的能力为 FPA-5510iX 提供了很大的优势。...
佳能i线步进式光刻机FPA-5550iZ2生产效率高，重叠精度高，能够快速完成晶圆的测量和校准，减少了晶圆处理的时间。...
佳能半导体光刻设备-步进式光刻机FPA-3030EX6，专用于物联网设备的KrF光刻机，最高分辨率达到150nm，可用电脑进行远程操控。...
佳能半导体光刻设备，高分辨率/高生产率 KrF 扫描仪FPA-6300ES6a 二手光刻机翻新现货。...
SAMCO二手翻新刻蚀系统刻蚀机RIE-10NR，紧凑型设计，能够处理8英寸晶圆，操作简易。...
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