Products Center
主页 > 产品中心 >
NSR-S320F 是一款能够满足这种尖端设备需求的扫描仪。通过采用在我们的浸入式扫描仪中得到验证的 Streamlign 平台，可确保尽早实现稳定操作和高生产率。与尼康之前的光刻机相比，吞吐...
Nikon ArF浸没式光刻机NSR-S621D经过验证的Streamlign平台，实现了2nm的极高叠印精度和200wph的吞吐量，并在硬件和软件方面进一步改进，为客户的生产线提供最佳和高效的解决方案。...
NSR-S630D通过提高投影镜头性能、使用光栅尺位置测量编码器以及改进温度空调系统，实现了更高的吞吐量以及MMO * 2的进一步改进。以2.5纳米以下的MMO和每小时250张（96次）的吞吐量实现...
Nikon ArF浸入式扫描 光刻机NSR-S631E光刻系统于2016年专为大批量半导体制造中的 7 纳米节点工艺而开发。...
NSR-S635EArF浸入式光刻机，集成内联对准站(iAS)，用于大容量5nm节点应用程序制造。采用流型平台效率，NSR-S635E在2.1nmMMO下提供了更好的覆盖精度，同时提供了超过275WPH（96次）的显著吞吐...
NSR-S622DArF浸没式扫描仪是通过进一步提高已验证的流线平台的准确性和生产力，用于20nm以下的高容量多模式应用。...
二手现货ASML ARF光刻机 XT:1700Fi，现货供应...
日立CD-SEM二手现货扫描电镜S-9220适用于8英寸晶圆的监测，CD检测范围0.1~2.0μm，最大吞吐量45wph，放大倍数1000~300,000。...
特征尺寸测量用扫描电子显微镜CD-SEM S-8840，适用于6英寸和8英寸晶圆的线宽测试。...
二手尼康Nikon i线光刻机NSR-4425i现货供应，针对8英寸晶圆，产能100wph。...
日立新型超高分辨SU8600扫描电镜用于半导体样品的形貌、结构研究及样品的元素分析。...
半导体制造设备涂胶显影机,应用于半导体制造的光刻工艺中，是感光剂(photoresist)的涂布(coat)和显影(develop)的设备。在该设备的涂胶（coat）单元中，硅片上面的感光剂首先被涂布，后被...
13730999691
