NSR-S621D 已开发用于大批量制造 22 nm 工艺节点（能够通过进一步提高久经考验的 NSR-S620D 的精度和生产率来处理双图案*1 )。尼康计划将 NSR-S621D 定位为其旗舰工具并扩大销售。
Nikon ArF浸没式光刻机NSR-S621D经过验证的Streamlign平台，实现了2nm的极高叠印精度和200wph的吞吐量，并在硬件和软件方面进一步改进，为客户的生产线提供最佳和高效的解决方案。
NSR-S621D 已开发用于大批量制造 22 nm 工艺节点（能够通过进一步提高久经考验的 NSR-S620D 的精度和生产率来处理双图案*1 )。尼康计划将 NSR-S621D 定位为其旗舰工具并扩大销售。
Nikon ArF浸没式光刻机NSR-S621D经过验证的Streamlign平台，实现了2nm的极高叠印精度和200wph的吞吐量，并在硬件和软件方面进一步改进，为客户的生产线提供最佳和高效的解决方案。
