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尼康Nikon ArF扫描光刻机NSR-S322F装载了在液浸式装置中取得优秀业绩的Streamlign Platform，同时进一步提高了重合精度与生产效率。满足了客户对生产线实现高精度与稳定量产的需求。...
PAS5500/750C DUV步进-扫描系统使用成熟的248nmKrF技术，可以实现130nm的大规模生产。它结合了改进的0.7NA 4倍还原镜头的成像能力与调平系统中最新的多点创新，以及空中II照明技术，包括类...
支持多重曝光、实现了超高精度与高产出的ArF液浸式扫描光刻机ArF液浸式扫描光刻机 NSR-S622D ArF液浸式扫描光刻机NSR-S622D专为20 nm以下制程的量产而开发，且采用了Streamlign Platform。在维...
ASML KrF曝光机AT: 850B是具有110nm分辨率的KrF (248 nm) Step&Scan300mm双级光刻系统。AT:850B光刻机采用Carl Zeiss Starlith 850高级投影光学器件，数值孔径 (NA)为0.80，每小时95（300 毫米晶圆）的吞吐量...
i 线步进式光刻机 NSR-SF155 适用于广泛的半导体器件的制造。采用悬吊投影镜头、减轻震动的“天钩构造”。...
TWINSCAN NXT:1970Ci步进扫描光刻机是一种高生产率的双级浸没式光具，专为在成熟节点批量生产 300 毫米晶圆而设计。...
AZ®1500 Series应用，通用正性光刻胶，具有出色的基材附着力，适用于要求苛刻的湿法蚀刻应用。快速实现高吞吐量，MIF 或 IN 开发人员兼容性，安全溶剂，旋涂厚度从 0.5 到 6µm，提供染...
超高分辨率冷场发射扫描电镜SU9000,具有超高的分辨率(0.4nm)，快速更换样品，高效稳定，优异的STEM、EDS性能,亦可配电子衍射和EELS。...
槽式清洗机 Ultron B200的关键应用：栅极预清洗、RCA清洗、光阻去除、氧化硅腐蚀、氮化硅腐蚀、CoSix选择性腐蚀...
应用范围：LED、Laser Diode、MEMS、Power MoS、Power Chip等等 蒸镀设备型式： 1. 金属电子束蒸镀设备 2. 金属热阻式蒸镀设备 3. 电子束/热阻混合式蒸镀设备 4. ITO电子束蒸镀设备 5. 双电子束...
1.等离子增强型化学气相沉积设备 2.用于SiO2,SiN的高精度薄膜沉积 3.膜层应力稳定,可调范围广泛 4.可换托盘式,基板尺寸切换简便...
The SUSS MA/BA6 SUSS MA/BA6 掩模对准器被广泛认为是半导体微米研究和微系统生产的基准。凭借其创新设计，该平台可满足客户对精度、灵活性和低成本的需求。 在实验室环境中，在 MA/BA6上...
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