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尼康Nikon ArF光刻机NSR-S306C，分辨率100nm，生产于2001年。 ...
尼康Nikon KrF光刻机NSR-S206D生产于2002年，分辨率110nm。...
尼康Nikon ArF光刻机NSR-S307E生产于2003年，分辨率80nm，采用193nmARF曝光光源。...
尼康Nikon i-line光刻机NSR-SF130生产于2005年，NA为0.62，分辨率不大于280nm。...
尼康Nikon 光刻机NSR-S308F，分辨率≤65nm，发布于2004年。...
尼康Nikon KrF光刻机NSR-S208D生产于2004年，分辨率≤110nm，产能达到140wph。 ...
NSR-S609B（分辨率 ≦ 55 nm），用于大批量生产的 ArF 浸入式扫描仪，NA 1.07（世界上第一台突破 NA 1.0 阈值的扫描仪）...
尼康Nikon i-line步进式光刻机NSR-SF140生产于2005年，分辨率≤280nm。...
尼康Nikon arf光刻机NSR-S610C，生产于2006年，分辨率小于等于45nm。...
NSR-SF155i线步进器适用于生产各种半导体器件。NSR-SF155采用了天钩技术，使投影镜头能够悬挂在身体和地板上，大大降低了振动水平。随着晶圆级速度的提高，NSR-SF155为300mm晶圆提供超过...
Nikon KrF扫描光刻机NSR-S210D产能达到176wph，对应110nm以下设备的量产...
尼康基于开创性的Streamlign 平台开发了 NSR-S620D，不仅可以实现 32 nm 的双图案光刻，还可以为下一代应用提供可扩展性。随后是进化型 NSR-S621D、S622D、S630D 和 S631E 浸入式扫描仪，适用于低...
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