NSR-S635EArF浸入式光刻机，集成内联对准站(iAS)，用于大容量5nm节点应用程序制造。采用流型平台效率，NSR-S635E在2.1nmMMO下提供了更好的覆盖精度，同时提供了超过275WPH（96次）的显著吞吐量。
NSR-S635EArF浸入式光刻机对准站对所有晶圆进行高速、超精确的测量，然后在不降低光刻系统吞吐量的情况下纠正有问题的网格误差。iAS能够对晶圆片上的所有镜头进行全面、多点对齐，实现显著的叠加改进，以及最大限度的扫描仪吞吐量。
NSR-S635EArF浸入式光刻机，集成内联对准站(iAS)，用于大容量5nm节点应用程序制造。采用流型平台效率，NSR-S635E在2.1nmMMO下提供了更好的覆盖精度，同时提供了超过275WPH（96次）的显著吞吐量。
NSR-S635EArF浸入式光刻机对准站对所有晶圆进行高速、超精确的测量，然后在不降低光刻系统吞吐量的情况下纠正有问题的网格误差。iAS能够对晶圆片上的所有镜头进行全面、多点对齐，实现显著的叠加改进，以及最大限度的扫描仪吞吐量。
