AMAT 沉积刻蚀设备蚀刻机 P5000由全球著名半导体设备厂商美国应用材料公司(Applied Materials）生产，P5000系统是世界上第一台成功的以单晶片、多反应室理念而设计的量产与研发均适用的半导体制程设备。
P5000沉积蚀刻系统具有绝佳的制程整合、量产制造等优点，并在不破真空的状况下，最多有四个相同或不相同的制程反应室同时进行生产，更富有弹性和整合能力。反应原理为:材料源以气体形式进入工艺腔体内，在RF加功率的情况下，材料源（反应气体）从辉光放电(Plasma:等离子场)中获得激活能，激活并增强化学反应，从而实现化学气象淀积。在实际使用过程中，P5000平台经常会出现各种各样的死机现象，本文就针对具体的各种死机现象进行分析，并提供相关的解决方案。
