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7月19日至21日，2023世界半导体大会暨南京国际半导体博览会，将亮相南京国际博览中心。...
即使美日等国合谋“围堵”中国半导体发展，中国也会冲出层层屏障，一飞冲天！...
在半导体生产工艺流程前期的晶圆片准备、清洗等不涉及图形的环节，一般会采用湿法刻蚀。...
刻蚀技术主要分为干法刻蚀与湿法刻蚀。干法刻蚀主要利用反应气体与等离子体进行刻蚀；湿法刻蚀主要利用化学试剂与被刻蚀材料发生化学反应进行刻蚀。...
刻蚀机到底是什么？其实对于刻蚀机的定义也是分为狭义定义和广义定义的。一般来说，狭义的其实就是光刻腐蚀，先用光刻的方法曝光光刻胶，再用其他方法刻蚀掉需要去除的部分。...
ASML、佳能、尼康、上海微电子，这四家光刻机企业占据了全球95%以上的份额，但这4家光刻机企业的水平差距也是非常大。ASML是唯一一个进入超高端光刻机领域的企业，它能够生产所有...
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