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6月17日台积电举行的技术论坛上,晶圆代工龙头台积电(TSMC)首次披露,到2024年,台积电将拥有阿斯麦(ASML)最先进的高数值孔径极紫外(high-NA EUV)光刻机,用于生产纳米片晶体管(...
要想提升晶片的制程,有许多种方法,一是让晶片厂商增加纳米制程,二是让他们加大设备的研究。在传统道路上不断突破技术限制。但到了4 nm以下的半导体产业,想要继续发展,就会...
东京佳能股份有限公司于2022年6月13日宣布,已开始销售其FPA-6300ES6a KrF半导体光刻设备的新“10级”生产率升级选项。...
ASML的目标是在2022年出货55台EUV光刻系统,并到2025年实现(最多)90台工具的计划。...
在芯片制造领域,光刻机无疑发挥着巨大作用,但自从美国对华下达芯片禁令开始,国内半导体产业一度陷入危机,这也让中国企业开始奋发图强,现在国内的光刻机终于来了,技术直...
中国光刻机和荷兰光刻机的差距是全方面的,这里面不仅是系统集成商的差距,也包括各种核心配件上的差距,比如光源、镜头、轴承等等一些精密部件。...
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