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半导体制造虽然是高科技行业，但同时也是高能耗行业，需要使用大量淡水及电力，其中电费已经是晶圆厂的重要成本之一，EUV光刻机每日耗电3万度，电价高低都是晶圆厂非常关注的。...
6月17日台积电举行的技术论坛上，晶圆代工龙头台积电（TSMC）首次披露，到2024年，台积电将拥有阿斯麦（ASML）最先进的高数值孔径极紫外（high-NA EUV）光刻机，用于生产纳米片晶体管（...
要想提升晶片的制程，有许多种方法，一是让晶片厂商增加纳米制程，二是让他们加大设备的研究。在传统道路上不断突破技术限制。但到了4 nm以下的半导体产业，想要继续发展，就会...
东京佳能股份有限公司于2022年6月13日宣布，已开始销售其FPA-6300ES6a KrF半导体光刻设备的新“10级”生产率升级选项。...
ASML的目标是在2022年出货55台EUV光刻系统，并到2025年实现（最多）90台工具的计划。...
在芯片制造领域，光刻机无疑发挥着巨大作用，但自从美国对华下达芯片禁令开始，国内半导体产业一度陷入危机，这也让中国企业开始奋发图强，现在国内的光刻机终于来了，技术直...
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