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AMAT二手刻蚀系统Centura Enabler，于2010年开始使用，采用氧化物刻蚀法，针对12英寸晶圆进行处理。...
Novellus 二手翻新 12英寸 现货Asher设备 刻蚀系统Gamma2130，属Asher类设备，针对于12英寸(300mm)晶圆处理。...
Aspen III 基于具有接地法拉第屏蔽的专有 ICP 源设计，为全球半导体制造商提供经过生产验证且具有成本效益的剥离和蚀刻解决方案。...
HITACHI KOKUSAI Asher RAM-8500ZX，针对于8英寸晶圆Asher设备，生产于1996年。...
爱发科ICP刻蚀设备刻蚀系统NE-550EXz现货，电极的刻蚀效果好，能够进行正确稳定的刻蚀重点效果检测，具有维护便利、性能稳定、产能优良等特点。...
AMAT 沉积刻蚀设备蚀刻机 P5000由全球著名半导体设备厂商美国应用材料公司(Applied Materials）生产，P5000系统是世界上第一台成功的以单晶片、多反应室理念而设计的量产与研发均适用的半...
SAMCO二手翻新刻蚀系统刻蚀机RIE-10NR，紧凑型设计，能够处理8英寸晶圆，操作简易。...
LAM 2300干式刻蚀机生产于2006年8月，采用介电质刻蚀技术，专门针对于300mm晶圆的解决方案...
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