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二手翻新佳能i线步进式光刻机FPA-8000iW最大处理515*510mm的大型面板基板，可实现大封装PLP生产，同时具备1.0μm的分辨率，高效灵活。...
佳能二手翻新光刻机FPA-5520iV，用于高级封装的 i-line 步进器，具有支持高分辨率和大曝光场的可选阵容，现货支持。...
二手现货佳能光刻机FPA-5510iX，可在 50 mm x 50 mm 的大曝光场上提供 0.5 um 的分辨率在单次曝光中曝光大视野的能力为 FPA-5510iX 提供了很大的优势。...
佳能i线步进式光刻机FPA-5550iZ2生产效率高，重叠精度高，能够快速完成晶圆的测量和校准，减少了晶圆处理的时间。...
佳能半导体光刻设备-步进式光刻机FPA-3030EX6，专用于物联网设备的KrF光刻机，最高分辨率达到150nm，可用电脑进行远程操控。...
佳能半导体光刻设备，高分辨率/高生产率 KrF 扫描仪FPA-6300ES6a 二手光刻机翻新现货。...
尼康Nikon ArF扫描光刻机NSR-S322F装载了在液浸式装置中取得优秀业绩的Streamlign Platform，同时进一步提高了重合精度与生产效率。满足了客户对生产线实现高精度与稳定量产的需求。...
PAS5500/750C DUV步进-扫描系统使用成熟的248nmKrF技术，可以实现130nm的大规模生产。它结合了改进的0.7NA 4倍还原镜头的成像能力与调平系统中最新的多点创新，以及空中II照明技术，包括类...
支持多重曝光、实现了超高精度与高产出的ArF液浸式扫描光刻机ArF液浸式扫描光刻机 NSR-S622D ArF液浸式扫描光刻机NSR-S622D专为20 nm以下制程的量产而开发，且采用了Streamlign Platform。在维...
ASML KrF曝光机AT: 850B是具有110nm分辨率的KrF (248 nm) Step&Scan300mm双级光刻系统。AT:850B光刻机采用Carl Zeiss Starlith 850高级投影光学器件，数值孔径 (NA)为0.80，每小时95（300 毫米晶圆）的吞吐量...
i 线步进式光刻机 NSR-SF155 适用于广泛的半导体器件的制造。采用悬吊投影镜头、减轻震动的“天钩构造”。...
TWINSCAN NXT:1970Ci步进扫描光刻机是一种高生产率的双级浸没式光具，专为在成熟节点批量生产 300 毫米晶圆而设计。...
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