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ASML二手现货i-line光刻机PAS 2500/40适用于6英寸晶圆，采用365nm的i-line曝光光源。...
PAS 2000是一种全自动晶圆步进机，旨在以快速吞吐量和维持正常运行时间为每个晶圆生产尽可能多的芯片，这些因素对于高效生产集成电路至关重要。在1.0和1.3微米之间的CD 上提供高曝光...
MIDAS二手光刻机MDA-4000由韩国迈斯达公司与2005年生产。...
ASML二手翻新现货KrF光刻机AT:750是248nm深紫外系统，保证130nm分辨率和20nm覆盖精度，并具有可在0.50到0.70之间任意调节的数值孔径。...
ASML ArF光刻机AT:1200作为其综合成像设施的一部分，SUNY Poly 拥有一台 TWINSCAN AT:1200 193 nm“干式”扫描仪；（0.85 NA）。...
ASML二手翻新现货ArF光刻机 AT:1100采用193nmArF曝光光源，针对于300mm晶圆处理的双级光刻平台。...
ASML二手翻新现货ArF光刻机XT:1250D，采用193nmArF曝光光源，针对于12英寸晶圆处理。...
ABM,Inc.全自动双面对准光刻机，正面对准精度±1um，对准光学系统：电控双目镜双视场CCD系统，两组目镜有效视场分离可调节间距10mm-150mm紫外波长：UV400...
ABM,Inc.全自动正面对准光刻机，正面对准精度±1um，对准光学系统：电控双目镜双视场CCD系统，两组目镜有效视场分离可调节间距10mm-150mm紫外波长：UV400...
ABM,Inc.双面对准（BSV）光刻机Sa系列，曝光时间调解器：0.1至999.9秒(可调节精度0.1s)； 365-400nm光强传感及电源供应控制电路及反馈闭环；...
曝光时间调解器：0.1至999.9秒(可调节精度0.1s)； 365-400nm光强传感及电源供应控制电路及反馈闭环； 声控功率警报装置可防止系统功率超过设定指标； 有安全保护装置的温度及其气...
FPA-3030iWa 支持直径为 200 毫米或更小的较小基板。支持从 50 毫米（2 英寸）到 200 毫米（8 英寸）的各种晶圆尺寸。...
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