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TWINSCAN XT:1250 – 一款 0.85 NA、193 nm 量产光刻扫描仪，可将成像扩展到 200 mm 和 300 mm 晶圆上的 65 nm 节点。...
ASML二手现货光刻机XT:1000H，用于200 mm和300 mm晶圆生产...
PAS5500/8TFH-A KrF步进扫描系统是一种专用的光刻工具，用于在125毫米、150毫米和200mmAlTiC晶片上生产薄膜头(TFH)。...
PAS 5500/850D 248nm步进扫描系统支持 110-nm 量产。...
ASML KrF光刻机PAS5500/850C 248nm步进-扫描系统可实现110nm的批量生产。自从PAS5500/850首次引入以来，PAS5500/850系列已经成为110nm逻辑和110nm内存应用的全球标准。PAS5500/850C可以配置许多选项，使...
ASML KRF光刻机PAS5500/800提供0.80 数值孔径 (NA)。该系统的分辨率为 120 纳米，将用于批量生产 256 MB DRAM 和其他先进的存储设备，...
ASML二手i-line光刻机PAS5500/80，具有500nm分辨率和<70nm对准精度。为 4 英寸晶圆设置，但可转换为 3 英寸或 6 英寸平台，21mmx21mm视场大小，1.3µm 焦深。...
ASML浸没式光刻机XT:1900i是建立在已建立的双链扫描平台上的。该平台的成熟技术降低了风险，提高了可靠性。更重要的是，双扫描平台的双级架构，加上XT：1900Gi提高的扫描速度600 mm/s的...
ASML DUV 光刻机 PAS 5500/750F DUV 步进和扫描系统使用成熟的 248-nm KrF 技术实现 130-nm 量产。...
Nikon尼康二手i-line Stepper i线光刻机NSR 2205i11D生产于1997年，解析度≤350nm。...
ASML二手翻新现货ARF光刻机 AT:1100是一款步进式ARF扫描仪，可在300mm的晶圆上进行100nm体积的生产。...
ASML DUV光刻机 PAS 5500/750E 扫描仪是 ASML 针对 200 毫米晶圆分辨率要求低于 0.15 微米的解决方案。它有深紫外镜头。ASML PAS 5500/750E 扫描仪的应用包括 DUV 光刻。该扫描仪得到了增强，具有小...
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