光刻是集成电路（IC或芯片）生产中的重要工艺之一。简单地说，就是利用光掩模和光刻胶在基板上复制电路图案的过程。
硅片上涂有二氧化硅绝缘层和光刻胶。光刻胶在紫外光照射下很容易被显影剂溶解，经过溶解和蚀刻后，电路图案就会留在基板上。
光刻胶与树脂、溶剂和添加剂结合在一起。光刻胶的感光范围为200nm-500nm。因此，许多半导体实验室会采用黄光来阻挡500nm紫外波长，以防止光刻胶曝光过度或过早曝光的情况。
为什么用黄光?
因为黄光的波长较长, 难以使得光刻胶曝光, 因此将黄光作光刻区域的照明光源。
除了上面的原因，还有如下几点：
- 避免干扰光刻工艺
在半导体微影制程中，实际使用的光源并非黄光，而是深紫外光（DUV）或极紫外光（EUV），这些短波长光源用于精确地在硅晶圆表面的光刻胶上刻画微细电路图案。
- 保护敏感材料
半导体生产过程中使用的某些材料可能对可见光谱中的某些波长敏感，尤其是对紫外线敏感。黄光的波长较长，不易引起这些敏感材料的化学反应。
- 视觉舒适性
黄光相较于蓝光等短波长光对人眼更加柔和，有助于减少长时间在无尘室工作的员工因高强度照明产生的视觉疲劳。
