Gasonics等离子刻蚀系统L3510设计用于半导体晶圆的灰化和清洗。Gasonics等离子刻蚀系统L3510 通过产生单原子氧（一种活性物质）来做到这一点，它与晶圆表面的光刻胶发生化学反应。
Gasonics等离子刻蚀系统L3510系统由两个主要部分组成：
(1)工艺子系统 工艺子系统包括控制器、微波发生器、气流控制、卡式平台和机器人总成。
(2)真空泵 真空泵通常安装在与主系统隔开的相邻机房内。泵应保持连续运行。
Gasonics等离子刻蚀系统L3510设计用于半导体晶圆的灰化和清洗。Gasonics等离子刻蚀系统L3510 通过产生单原子氧（一种活性物质）来做到这一点，它与晶圆表面的光刻胶发生化学反应。
Gasonics等离子刻蚀系统L3510系统由两个主要部分组成：
(1)工艺子系统 工艺子系统包括控制器、微波发生器、气流控制、卡式平台和机器人总成。
(2)真空泵 真空泵通常安装在与主系统隔开的相邻机房内。泵应保持连续运行。
