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SUSS半自动湿法处理设备AD12
SUSS半自动湿法处理设备AD12

SUSS半自动湿法处理设备AD12

SUSS MicroTec的半自动湿处理系统AD12为水介质应用提供了卓越的清洁和开发功能。单晶片处理平台可用于工件，晶片尺寸高达300mm，方形基板高达230mmx230mm，用于晶片的带框高达300mm。它处理...

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SCREEN二手清洗设备WS-820L
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SCREEN二手清洗设备WS-820L，针对8英寸晶圆的高通量批量清洗系统可实现灵活的生产线配...

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全自动晶圆清洗机 AWS150
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全自动晶圆清洗机 AWS150

全自动晶圆清洗机 AWS150针对 4 寸晶圆后端制程设计，用于单片清洗。...

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SCREEN单片式半导体清洗设备SU 3100
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SCREEN单片式半导体清洗设备SU 3100具有8个内置腔室，吞吐量能够达到300wph。...

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至纯科技 单片式湿法清洗设备 Ultron S200/S300
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槽式清洗机 Ultron B200
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槽式清洗机 Ultron B200

槽式清洗机 Ultron B200的关键应用：栅极预清洗、RCA清洗、光阻去除、氧化硅腐蚀、氮化硅腐蚀、CoSix选择性腐蚀...

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