MATRIX SYSTEM 10二手刻蚀机，反应离子刻蚀RIE、Plasma asher双模式，可对6-8英寸的晶圆进行蚀刻工艺加工处理。
制造商:matrix
型号：system 10
类别:etcher/asher
晶圓尺寸:6"-8"
设备详细信息:
反应离子蚀刻器 (RIE) / 等离子灰化器，6"-8"
真空泵组
冷却器和手动
闭环温度控制系统
蝶形压力控制器
分散气室
引脚向上/向下处理
相位幅度射频匹配调谐器
MATRIX SYSTEM 10二手刻蚀机，反应离子刻蚀RIE、Plasma asher双模式，可对6-8英寸的晶圆进行蚀刻工艺加工处理。
制造商:matrix
型号：system 10
类别:etcher/asher
晶圓尺寸:6"-8"
设备详细信息:
反应离子蚀刻器 (RIE) / 等离子灰化器，6"-8"
真空泵组
冷却器和手动
闭环温度控制系统
蝶形压力控制器
分散气室
引脚向上/向下处理
相位幅度射频匹配调谐器
