Lam Research Rainbow 4520刻蚀系统是一个单晶圆，真空负载锁定的低压氧化刻蚀系统，用于刻蚀长径比<4:1的0.5um接触孔。该系统具有具有低导流形的介质薄膜各向异性蚀刻的低压主室，具有非晶圆接触光学对准、平面或缺口定向和上下电极主动温度控制的取放晶圆传输系统。该工艺利用低聚合物形成化学高选择性多晶硅。该系统还可以包括单色器，用于在暴露的氧化物上自动端点。
Lam Research Rainbow 4520刻蚀系统是一个单晶圆，真空负载锁定的低压氧化刻蚀系统，用于刻蚀长径比<4:1的0.5um接触孔。该系统具有具有低导流形的介质薄膜各向异性蚀刻的低压主室，具有非晶圆接触光学对准、平面或缺口定向和上下电极主动温度控制的取放晶圆传输系统。该工艺利用低聚合物形成化学高选择性多晶硅。该系统还可以包括单色器，用于在暴露的氧化物上自动端点。
