Products Center
主页 > 产品中心 > 曝光显影设备 >
Suss MicroTec ACS200 是一种自动光刻胶涂层和烘烤站，具有盒到盒基底操作。它支持在各种基材上旋涂和喷涂光刻胶。该工具提供完整的抗蚀剂涂层功能，包括高达 250 °C 的热板烘烤和背面...
HP-200是为光刻、MEMS和类似应用中的精密热处理工艺而开发的。默认温度范围设计为高达250°C。...
CLEAN TRACK™ LITHIUS™ 是一款 300/200mm 涂布机/显影机。为应对剧烈波动的市场需求，CLEAN TRACK™ LITHIUS™ 的开发基于三个概念：改进的处理、缩短的循环时间和增强的网络解决方案。它提高...
半导体制造设备涂胶显影机,应用于半导体制造的光刻工艺中，是感光剂(photoresist)的涂布(coat)和显影(develop)的设备。在该设备的涂胶（coat）单元中，硅片上面的感光剂首先被涂布，后被...
The SUSS MA/BA6 SUSS MA/BA6 掩模对准器被广泛认为是半导体微米研究和微系统生产的基准。凭借其创新设计，该平台可满足客户对精度、灵活性和低成本的需求。 在实验室环境中，在 MA/BA6上...
13730999691
