ASML ARF光刻机PAS 5500/1100B支持 8" /200mm工艺节点。ASML光刻机5500/1100B使用ASML的专利Athena晶圆对准系统,配备193nm ArF激光器和0.75 NA,能够达到100nm以下的分辨率。 ASML ARF光刻机5500/1100B的应用包括光子IC的制造。
ASML ARF光刻机PAS 5500/1100B支持 8" /200mm工艺节点。ASML光刻机5500/1100B使用ASML的专利Athena晶圆对准系统,配备193nm ArF激光器和0.75 NA,能够达到100nm以下的分辨率。 ASML ARF光刻机5500/1100B的应用包括光子IC的制造。