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佳能二手i-line光刻机CANON FPA 3000 I4 ，可对尺寸为8英寸的晶圆进行加工处理...
ASML二手ARF光刻机AT 1150，193nm，拆卸以及包装已经完成，随时可发货。...
佳能canon 二手i-line光刻机FPA-5500IZ+，分辨率350nm，可对12英寸晶圆进行光刻工艺加工。...
尼康的这款i-line光刻机NSR 2205i12D。分辨率≦350 nm，曝光光源i-line（365nm波长），缩小比1:5，曝光场22mm*22mm至17.9(H)*25.2(V)mm(6-inch reticle), 20.0*20.4mm(5-inch reticle), 对准精度 (EGA,|M|+3σ)≦55nm。...
ASML 二手翻新DUV光刻机生产于2006年，可针对于300mm尺寸的晶圆进行处理。...
TWINSCAN XT:450G 365-nm步进式扫描系统是一种高生产率的双级光刻工具，设计用于批量生产分辨率低至 220-nm 及以上的关键 i-line 应用。...
TWINSCAN XT:400G 365 nm步进扫描系统是一种超高生产率的双级光刻工具，专为350 nm分辨率的300 mm晶圆批量生产而设计...
TWINSCAN XT:1900Gi Step-and-Scan 系统是一种高生产率的双级浸没式光刻工具，专为 45 纳米及以下分辨率的 300 毫米晶圆批量生产而设计。...
XT:1450 是先进的干式 ArF 批量生产系统。它提高了 IC 制造商的所有权价值，在批量制造条件下每小时可生产 143 片晶圆。新的 AERIAL-P 照明器支持高效偏振，加上增强的镜头像差控制和增强的叠加...
XT：1400Ei拥有高性能蔡司1400i镜头，拥有从0.65到0.93，此外，湿式系统增加了两倍自由度。...
WINSCAN XT:1250i使用193 nm波长的光，具有数值孔径为0.85的透镜系统。它被描述为预生产光刻扫描仪，标志着在1150i的Twinscan上的一个进步，这是ASML最初的浸入式原型，其数值孔径相对较低，...
ASML二手翻新现货ArF光刻机XT:1250B，分辨率<70nm。...
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