News Information
主页 > 新闻资讯 >
光刻机作为集成电路生产中不可或缺的重要设备之一，在分析人士看来，EUV 光刻技术或非是通向先进制程的必由之路。...
尼康宣布，将于2024年1月正式推出ArF 193纳米浸没式光刻机“NSR-S636E”，生产效率、套刻精度都会有进一步提升。...
从中国科学院深圳先进技术研究院获悉，该院先进集成技术研究所副研究员李光元团队提出在光子芯片上减慢光速新方法，有望极大地提高慢光光子芯片器件的性能，并在光传感、光通...
2024年 1 月 2 日消息，今早，全球光刻机龙头 ASML 在官网发布声明称，荷兰政府最近吊销了该公司 2023 年发货 TWINSCAN NXT:2050i 和 NXT:2100i 光刻机的部分许可证，这会对其少数中国客户产生...
荷兰阿斯麦公司将优先向美国英特尔公司交付其新型高数值孔径的极紫外光刻机。据悉，每台新机器的成本超过3亿美元，可帮助计算机芯片制造商生产更小、更快的半导体。...
广东省社科院金凯：中韩半导体产业正从“互补性”合作转向“竞争性”合作.金凯表示，从全球半导体市场来看，中国、美国是世界上最大的两个半导体市场，整个亚太地区半导体市场...
13730999691
